
네덜란드 공공기관인 브라반트 개발청의 브리핑에 따르면 200개 이상의 기술회사 경영진이 베트남·말레이시아·싱가포르 등을 방문한다.
동남아 투자를 검토하는 배경은 중국 위험에 대한 노출을 줄이기 위한, 보다 광범위한 장기 전략의 일환이다.
네덜란드의 주요 무역 파트너인 중국은 명시적으로 이에 대해 언급하지는 않았지만, 중국과 ASML 모두 영향을 받게 된다.
ASML이 생산하는 리소그래피란 빛을 이용해 실리콘에 미세한 패턴을 구현하는 반도체 공정의 핵심 과정이다. 작동 원리는 빛으로 인쇄하고자 하는 상 혹은 패턴을 투사하면 반도체 웨이퍼에 원하는 패턴보다 4분의 1로 축소된 이미지가 구현된다. 이러한 패턴은 리소그래피의 광학 시스템을 통해 전사되어 포토레지스트가 도포된 실리콘 웨이퍼 위에 축소된 형태로 패턴이 구현될 수 있는 역할을 하게 된다. 이러한 반복적인 작업을 통해 웨이퍼에 동일한 패턴을 만들어 낸다.
ASML의 심자외선(DUV) 플랫폼은 현재 반도체 양산에 가장 많이 사용되는 시스템으로, DUV 시스템은 물을 사용한 침수 장비와 건조 솔루션이 있으며 고객사에서 생산하는 다양한 반도체 제품군을 통해 수많은 제품에 사용되고 있다.
지난해 중국 파운드리 업체인 SMIC는 최선단 공정인 7나노 제품 양산에 성공한 것으로 알려진 바 있는데 이때 사용한 장비가 DUV 장비인 것으로 알려졌다.
7나노 제품은 이제까지 대만 TSMC와 삼성전자만이 양산에 적용할 수 있는 기술이었다. 그 때문에 업계에서는 SMIC가 최선단 파운드리 공정에 필수적인 DUV 장비를 몰래 도입한 것이 아니냐는 관측도 나온 바 있다.
이제 미국의 반도체 수출규제로 중국이 DUV 장비를 수입하기가 어려워질 것이 확실시되고 있다.
박정한 글로벌이코노믹 기자 park@g-enews.com